Öppna kontorslandskap ökar risken för mobbning

– Ökad mobbning är en påtaglig negativ konsekvens av hur man väljer att organisera arbetsplatsen. Det är viktigt att lyfta fram eftersom det inte undersökts tidigare, säger Michael Rosander som är professor vid avdelningen för psykologi vid Linköpings universitet, i en kommentar.

I studien, som publicerats i den vetenskapliga tidskriften ”Occupational Health Science”, deltog 3 300 slumpmässigt utvalda yrkesverksamma svenskar genom att svara på en enkät. Av dem som hade ett kontorsarbete satt 30 procent i ett traditionellt öppet landskap och 13 procent i ett aktivitetsbaserat kontor där man sitter i ett öppet landskap en del av tiden men där det finns särskilda rum för lugn och ro. Resten hade eget rum eller delade med några få.

Lättare att störa sig på kollegor

Enkätsvaren visar på en tydligt ökad risk för mobbning i öppna kontorslandskap. Skillnaden fanns oberoende av faktorer som personlighetsdrag och andelen distansarbete. Enligt forskarna beror det på att det är lättare att lägga märke till kollegornas brister och börja irritera sig på dem i öppna kontorslandskap. Om någon tröttnar och tar på sig att ”göra något åt” en kollegas beteende, och det saknas tydliga spelregler för hur sådant ska hanteras, finns en risk att det övergår i mobbning. Den som blir utsatt har heller ingenstans att dra sig undan.

I aktivitetsbaserade kontor fanns däremot ingen ökad risk för mobbning. Men i båda typerna av öppet kontorslandskap funderade de anställda oftare på att byta jobb. En förklaring till det är att det även på aktivitetsbaserade kontor finns fler störningsmoment, tror Michael Rosander.

Beredskap för konflikter

För de som planerar en flytt eller omgörning av kontoret finns några lärdomar att dra enligt Michael Rosander. En är att ha beredskap för att irritation mellan kollegor kan uppstå och ha en plan för hur det ska hanteras innan konflikterna växer sig för stora. En annan är att se till att det finns rum att dra sig undan till för koncentrationskrävande uppgifter.